疑问？光学玻璃基旋涡波片主要清洗的目标是什么：

光学玻璃基涡旋波片在制造和封装过程中可能残留以下污染物，超声波清洗可高效去除：

1、抛光残留物（如氧化铈、二氧化硅颗粒）。

2、有机污染物（指纹、油脂、灰尘）。

3、金属离子或无机盐（来自加工环境或化学处理）。

4、临时保护膜或光刻胶残留（如用于微结构制作的抗蚀剂）。

威固特VGT-1409FH超声波清洗机所具备的清洗优势等技术功能如下：

相比传统清洗方法（如手动擦拭、喷淋清洗），威固特VGT-1409FH超声波清洗机在光学玻璃基涡旋波片生产中具有以下优势：

威固特VGT-1409FH超声波清洗机推荐技术参数（为确保清洗效果并避免损伤）：

威固特VGT-1409FH超声波清洗机分步清洗流程：

步骤1：预清洗（可选）

目的：去除大颗粒松散污染物，减少超声波负载。

方法：

用氮气枪吹扫波片表面。

浸泡于去离子水中，手动摇晃10秒。

步骤2：超声波主清洗

参数：

清洗液：按污染类型选择。

功率：8W/L（如10L槽体=80W）。

时间：2分钟。

操作：

将波片装入支架，完全浸没于清洗液（液面高出波片≥2cm）。

启动超声波，观察清洗液流动是否均匀（避免死角）。

步骤3：漂洗

目的：去除清洗液残留。

方法：

一级漂洗：超纯水（电阻率≥18.2 MΩ·cm）中浸泡1分钟，轻微摇晃。

二级漂洗：流动超纯水冲洗30秒（流速1L/min）。

步骤4：干燥

氮气吹干：

使用0.1μm过滤的氮气，压力≤0.2MPa。

从波片中心向外螺旋式吹扫，角度45°（避免液滴残留）。